Elektronový litograf
Předmětem zakázky je dodávka elektronového litografu pro výrobu nano - a mikrostruktur pomocí elektronové litografie.
Požadované zařízení musí být schopno obrazové analýzy litograficky připravených struktur pomocí elektronové mikroskopie detekcí zpětně odražených elektronů.
Zařízení se skládá z procesní komory a nezávisle čerpané zakládací komory.
Celé zařízení bude uloženo na vlastní podpůrné konstrukci. Zařízení musí umožnit i zpětnou kontrolu pomocí technik elektronové mikroskopie.
Dedikovaný elektronový litograf bude dodán jako plně funkční technologický celek zahrnující kompletní vakuový systém, chladicí systém, elektronový tubus, držák substrátů s manipulátorem, kompletní elektronický systém, řídící a vyhodnocovací datastanici s OS Windows XP/7/8, ovládací a vyhodnocovací SW balík k ovládání elektronového litografu.
Požadované zařízení je nezbytnou součástí ucelené litografické linky ve sdílených laboratořích a zprostředkuje jeden z posloupnosti mnoha definovaných kroků při výrobě litografických struktur.
Zařízení bude používáno pro definované vytváření litografických vzorů na substrátech popř. maskách s dosažitelným rozlišením menším než 10 nm.
Požadované parametry, vzhledem k úmyslu získat zařízení vhodné pro vysoce kvalifikovaný vědecký výzkum i rutinní měření, uvedené v části 3 zadávací dokumentace jsou požadavky minimální.
Požadavky kladené na předmět zakázky budou ověřeny při dodávce, po instalaci nebo při demonstraci a technickém školení – podrobněji uvedeno v části 3 zadávací dokumentace.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2014-04-11.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2014-02-17.
Dodavatelé
V rozhodnutích o udělení zakázky nebo v jiné zadávací dokumentaci jsou uvedeni tito dodavatelé:
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
Datum |
Dokument |
2014-02-17
|
Oznámení zadávacího řízení
|
2014-06-18
|
Oznámení o zadání zakázky
|