Systém magnetronového naprašování ve vakuu (Magnetron Sputtering Vacuum Deposition System)
Přístroj musí být schopen nanášet tenké vrstvy (cca. 100 nm) mědi a zlata na vybrané substráty (do průměru 2 palců). Možnost nanášení jiných kovů (Fe, Ni, Pt, Pd) je vysoce žádoucí.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2017-03-08.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2017-02-15.
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
| Datum |
Dokument |
| 2017-02-15
|
Oznámení zadávacího řízení
|
| 2017-03-31
|
Oznámení o zadání zakázky
|