Krátký popis
Předmětem plnění zakázky je dodávka kompaktního optického litografického systému s jednoduchým ovládáním, který umožňuje přímý zápis do fotorezistu vysokou rychlostí bez použití masky. Systém musí umožňovat zápis jak na velké plochy s proměnlivým rozlišením, tak na více sub-milimetrových waferů současně ve vysokém rozlišení, dále vícenásobný zápis s přesným zarovnáním a možností virtuálního náhledu před expozicí. Zdroj osvitu 385 nm (s možnou odchylkou ±5 nm), který je vhodný pro pozitivní i negativní, širokopásmové, g-, h-, i-line a použitelný i pro SU-8 fotorezisty. Systém musí umožňovat dlouhotrvající expozice ve vysokém rozlišení s účinným potlačením vibrací a teplotních výkyvů. Systém musí zahrnovat řídící jednotku, software pro ovládání litografu a zobrazování v reálném čase.