Dodavatel: HVM Plasma, spol. s.r.o.
2 archivované veřejné zakázky
HVM Plasma, spol. s.r.o. byla v minulosti dodavatelem průmyslové stroje, laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel) a strojní zařízení pro výrobu a použití mechanické síly.
Nedávné veřejné zakázky, u nichž je uveden dodavatel HVM Plasma, spol. s.r.o.
2020-08-28
Reaktivní magnetronové naprašování, HiPIMS v H2S a H2Se reaktivních plynech (Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.)
Předmětem zakázky je dodávka plazmatického depozičního systému pro laboratorní depozice sulfidových a selenidových polovodivých vrstev pomocí použití reaktivních plynů H2S a H2Se. Zobrazit zadávací řízení »
Předmětem zakázky je dodávka plazmatického depozičního systému pro laboratorní depozice sulfidových a selenidových polovodivých vrstev pomocí použití reaktivních plynů H2S a H2Se. Zobrazit zadávací řízení »
2018-02-06
PVD povlakovací systém s HiPIMS zdrojem – opakování (České vysoké učení technické v Praze)
Předmětem této veřejné zakázky je dodávka PVD povlakovacího systému s HiPIMS zdrojem. Tento PVD povlakovací systém s HiPIMS zdrojem musí mít funkce a musí splňovat požadavky Zadavatele stanovené v Technické specifikaci plnění, která tvoří Přílohu č. 1 Zadávací dokumentace. Zobrazit zadávací řízení »
Předmětem této veřejné zakázky je dodávka PVD povlakovacího systému s HiPIMS zdrojem. Tento PVD povlakovací systém s HiPIMS zdrojem musí mít funkce a musí splňovat požadavky Zadavatele stanovené v Technické specifikaci plnění, která tvoří Přílohu č. 1 Zadávací dokumentace. Zobrazit zadávací řízení »