Vybavení komory RFPACVD
Předmětem veřejné zakázky je modernizace zařízení fungující na základě metody RF PACVD (ang. Radio Frequency Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition). Toto zařízení umožňuje vytváření tenké vrstvy procesem krystalizace z plynné fáze za pomocí chemické reakce (rozkladu plynu) ve vysokofrekvenčním elektrickém poli.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2011-11-28.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2011-09-30.
Dodavatelé
V rozhodnutích o udělení zakázky nebo v jiné zadávací dokumentaci jsou uvedeni tito dodavatelé:
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
| Datum |
Dokument |
| 2011-09-30
|
Oznámení zadávacího řízení
|
| 2012-05-14
|
Oznámení o zadání zakázky
|