Vybavení komry RFPACVD
Předmětem veřejné zakázky je modernizace zařízení fungující na základě metody RF PACVD (ang. Radio Frequency Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition). Toto zařízení umožňuje vytváření tenké vrstvy procesem krystalizace z plynné fáze za pomocí chemické reakce (rozkladu plynu) ve vysokofrekvenčním elektrickém poli. Parametry RF výboje jsou závislé na pracovním tlaku, záporném napětí a na druhu plynu. V závislosti na druhu použitého plynu vakuový reaktor s RF výbojem umožňuje vytváření různých typů vrstev. Použití methanu umožňuje pomocí této metody vytváření uhlíkových vrstev.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2011-05-05.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2011-03-14.
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
| Datum |
Dokument |
| 2011-03-14
|
Oznámení zadávacího řízení
|
| 2011-05-23
|
Dodatečné informace
|