Bezmaskový laserový litograf
Předmětem zakázky je dodávka bezmaskového laserového litografického systému. Dané zařízení je určeno pro výrobu masek nebo pro přímou bezmaskovou výrobu 2D a případně 3D struktur jako jsou například senzory, refraktivní a difraktivní mikro optické prvky, MEMS apod. Dodávku tvoří kompletní systém vyžadující pouze připojení k síti 230 V, demineralizované vodě, vakuovému rozvodu a rozvodu stlačeného vzduchu nebo dusíku. Celkové uspořádání bezmaskového laserového litografického systému musí být kompatibilní s čistými prostorami třídy 100. Dodávka bude realizována včetně instalace, uvedení do provozu a zaškolení obsluhy. Dodavatel prokáže splnění technických parametrů po instalaci na místo plnění, kde dojde k demonstraci a ověření technických parametrů dodaného přístroje. Detailní technická specifikace je uvedena v zadávací dokumentaci.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2013-03-19.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2013-01-22.
Dodavatelé
V rozhodnutích o udělení zakázky nebo v jiné zadávací dokumentaci jsou uvedeni tito dodavatelé:
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
| Datum |
Dokument |
| 2013-01-22
|
Oznámení zadávacího řízení
|
| 2013-06-05
|
Oznámení o zadání zakázky
|
Nové veřejné zakázky v souvisejících kategoriích 🆕