Technologická zařízení II
Zadavatel s ohledem na předmět plnění tuto zakázku rozdělil v souladu s § 98 zákona na 2 následující části:
— část 1 – Chemické a plazmatické depozice za nízkého tlaku,
— část 2 – Ion sputtering.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2013-05-27.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2013-04-03.
Dodavatelé
V rozhodnutích o udělení zakázky nebo v jiné zadávací dokumentaci jsou uvedeni tito dodavatelé:
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
| Datum |
Dokument |
| 2013-04-03
|
Oznámení zadávacího řízení
|
| 2013-05-22
|
Dodatečné informace
|
| 2013-08-01
|
Oznámení o zadání zakázky
|