Etching and deposition devices for CEITEC

Masarykova univerzita

The subject matter of the contract is the supply of complex of etching and deposition devices for CEITEC (Central European Institute of Technology) core facility — Nano-fabrication and Nano characterization, supply of complex of etching and deposition devices for CEITEC (Central European Institute of Technology) core facility — Nano-fabrication and Nano-characterization.
Public contract is subdivided into 2 lots.
The subject matter of the lot No.1 of the contract is supply of complex of the following devices:
— Vacuum system for deposition of thin films on the silicon based (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC);
— Vacuum system for reactive ion etching of silicon, silicon oxide and deposition of carbon layers;
— Vacuum system for deep reactive ion etching of silicon;
— Vacuum system for reactive ion etching of metals, III-V materials (GaN,InP).
The subject matter of the lot No.2 of the contract is supply of following device:
Vacuum system for deposition of materials using PECVD at high temperature.
For more information, please see the tender documentation.

Termín

Lhůta pro podání nabídek byla 2014-10-30. Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2014-09-12.

Dodavatelé

V rozhodnutích o udělení zakázky nebo v jiné zadávací dokumentaci jsou uvedeni tito dodavatelé:

• PAP & spol. s.r.o.

Kdo?

• Masarykova univerzita

Cože?

Kde?

• Jihovýchod › Jihomoravský kraj

Historie zadávání veřejných zakázek

Datum	Dokument
2014-09-12	Oznámení zadávacího řízení
2014-09-16	Dodatečné informace
2014-10-27	Dodatečné informace
2015-01-30	Oznámení o zadání zakázky

Oznámení zadávacího řízení (2014-09-12)
Objekt
Rozsah veřejné zakázky
Název: Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel)
Množství nebo rozsah: 45 900 000
Celková hodnota zakázky: 37 300 000 💰
Metadata oznámení
Původní jazyk: čeština 🗣️
angličtina 🗣️
Typ dokumentu: Oznámení zadávacího řízení
Povaha zakázky: Dodávky
Předpis: Evropská Unie, za účasti zemí GPA
Společný slovník pro veřejné zakázky (CPV)
Kód: Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel) 📦

Postup
Typ řízení: Otevřené řízení
Typ nabídky: Podání nabídky pro jednu nebo více částí
Kritéria pro udělení ceny
Hospodářsky nejvýhodnější nabídka

Zadavatel
Totožnost
Země: Česko 🇨🇿
Typ zadavatele: Veřejnoprávní subjekt
Název zadavatele: Masarykova univerzita
Poštovní adresa: Žerotínovo nám. 9
Poštovní směrovací číslo: 601 77
Poštovní město: Brno
Kontakt
Internetová adresa: http://www.muni.cz 🌏
E-mail: petr.jelinek@ceitec.cz 📧
Telefon: +420 549495285 📞

Odkaz
Data
Datum odeslání: 2014-09-12 📅
Lhůta pro podání nabídek: 2014-10-30 📅
Datum zveřejnění: 2014-09-17 📅
Identifikátory
Číslo oznámení: 2014/S 178-314283
Odkazuje na oznámení: 2014/S 99-172562
Číslo Úř. věst. S: 178
Další informace

Technická způsobilost (pokračování oddílu III.2.3). Část 1. A) Seznam alespoň 3 významných dodávek: — vakuového systému pro depozici vrstev pomocí plazmatu, — vakuového systému pro leptaní materiálů nebo depozici uhlíkových vrstev pomocí plazmatu, — vakuového systému pro hluboké leptání křemíku pomocí plazmatu, — vakuového systému pro leptaní materiálů pomocí plazmatu. B) alespoň 1 osoba s titulem Ph.D. či srovnatelným za každý ze 4 technologických procesů (proces depozice vrstev na bázi křemíku, proces leptaní kovů, křemíku, oxidu křemíku a depozici uhlíkových vrstev, proces hlubokého leptání křemíku, oxidu křemíku a nitridu křemíku, proces hlubokého leptání křemíku, proces leptaní kovů, III-V materiálů (GaN, InP)). C) popis alespoň 1 zařízení dodavatele určeného k provádění výzkumu, konkrétně pro charakterizaci leptaných a deponovaných vzorků, např. SEM, AFM, profilometr. Část 2. A) Seznam alespoň 3 významných dodávek vakuového systému pro depozici materiálů pomocí PECVD za vysoké teploty. B) Alespoň 1 osoba s titulem Ph.D. či srovnatelným za každý ze 2 technologických procesů (proces depozice jednostěnných a více-stěnných uhlíkových nanotrubek, proces depozice grafénu rosteného paralelně se substrátem). C) popis alespoň 1 zařízení dodavatele určeného k provádění výzkumu, konkrétně zařízením pro charakterizaci deponovaných vzorků, např. SEM, ramanovský spektrometr, TEM.

Další informace

Technická způsobilost (pokračování oddílu III.2.3).

Část 1.

A) Seznam alespoň 3 významných dodávek:

— vakuového systému pro depozici vrstev pomocí plazmatu,

— vakuového systému pro leptaní materiálů nebo depozici uhlíkových vrstev pomocí plazmatu,

— vakuového systému pro hluboké leptání křemíku pomocí plazmatu,

— vakuového systému pro leptaní materiálů pomocí plazmatu.

B) alespoň 1 osoba s titulem Ph.D. či srovnatelným za každý ze 4 technologických procesů (proces depozice vrstev na bázi křemíku, proces leptaní kovů, křemíku, oxidu křemíku a depozici uhlíkových vrstev, proces hlubokého leptání křemíku, oxidu křemíku a nitridu křemíku, proces hlubokého leptání křemíku, proces leptaní kovů, III-V materiálů (GaN, InP)).

C) popis alespoň 1 zařízení dodavatele určeného k provádění výzkumu, konkrétně pro charakterizaci leptaných a deponovaných vzorků, např. SEM, AFM, profilometr.

Část 2.

A) Seznam alespoň 3 významných dodávek vakuového systému pro depozici materiálů pomocí PECVD za vysoké teploty.

B) Alespoň 1 osoba s titulem Ph.D. či srovnatelným za každý ze 2 technologických procesů (proces depozice jednostěnných a více-stěnných uhlíkových nanotrubek, proces depozice grafénu rosteného paralelně se substrátem).

C) popis alespoň 1 zařízení dodavatele určeného k provádění výzkumu, konkrétně zařízením pro charakterizaci deponovaných vzorků, např. SEM, ramanovský spektrometr, TEM.

Objekt
Rozsah veřejné zakázky
Krátký popis:

Public contract is subdivided into 2 lots.

The subject matter of the lot No.1 of the contract is supply of complex of the following devices:

— Vacuum system for deposition of thin films on the silicon based (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC);

— Vacuum system for reactive ion etching of silicon, silicon oxide and deposition of carbon layers;

— Vacuum system for deep reactive ion etching of silicon;

— Vacuum system for reactive ion etching of metals, III-V materials (GaN,InP).

The subject matter of the lot No.2 of the contract is supply of following device:

Vacuum system for deposition of materials using PECVD at high temperature.

For more information, please see the tender documentation.

Číslo části: 1
Krátký popis:

The subject matter of the 1st lot of the contract is supply of complex of the following devices:— Vacuum system for deposition of thin films on the silicon based (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC);— Vacuum system for reactive ion etching of silicon, silicon oxide and deposition of carbon layers;— Vacuum system for deep reactive ion etching of silicon;— Vacuum system for reactive ion etching of metals, III-V materials (GaN,InP).

The subject matter of the 1

Číslo části: 2
Krátký popis:

The subject matter of the lot No.2 of the contract is supply of following device:Vacuum system for deposition of materials using PECVD at high temperature.

Doba trvání: 10 měsíců
Referenční číslo: MU-ZAK/74864/2014/140657/CEITEC-CŘS
Název projektu nebo programu financovaného EU:

The public contract is financed by EU, Operational programme Research and development for Innovation as a project entitled „CEITEC — Central European Institute of technology“, reg. No. CZ.1.05/1.1.00/02.0068.

Místo plnění
Hlavní místo nebo místo plnění: Brno.

Právní, ekonomické, finanční a technické informace
Podmínky účasti
Způsobilost pro výkon profesní činnosti:

Basic qualification requirements set out in Section 53 (1) a) through k) of the Act no. 137/2006 Coll. (further as the Act) fulfilled by in the manner set out in Section 53 (3) of the Act.

Ekonomická a finanční situace: Affidavit of economic and financial capability to perform the public contract.
Minimální úroveň (úrovně) standardů: Economic and financial capability to perform the public contract.
Technická a odborná způsobilost:

Technical qualification requirements set out in Section 56 (1) a), b) and c) of the Act.

Minimální úroveň (úrovně) standardů:

Lot No. 1

A) List of at least 3 principal deliveries:

— vacuum systems for deposition of films using plasma,

— vacuum systems for reactive ion etching of materials or deposition of carbon layers using plasma,

— vacuum systems for deep reactive ion etching of silicon using plasma,

— vacuum systems for reactive ion etching of materials using plasma.

B) At least one technician with Ph.D degree or equivalent responsible for the quality control of each of the 4 technological procedures in question (procedure of deposition of thin films on the silicon based, procedure of reactive ion etching of silicon, silicon oxide and deposition of carbon layers, procedure of deep reactive ion etching of silicon, procedure of reactive ion etching of metals, III-V materials (GaN,InP))

C) description of at least 1 equipment of the Tenderer designed for research, in particular equipment designed for the characterisation of deposited and etched samples, e.g. SEM, AFM, profilometers.

Lot No. 2

A) List of at least 3 principal deliveries of vacuum systems for deposition of materials using PECVD at high temperature.

B) At least one technician with Ph.D degree or equivalent responsible for the quality control of each of both technological procedures in question (deposition process for singlewall and multiwall carbon nano-tubes, deposition process for graphene grown parallel to the substrate).

C) description of at least 1 equipment of the Tenderer designed for research, in particular equipment designed for the characterisation of deposed patterns, e.g. SEM, raman spectrometer, TEM.

Plnění zakázky
Požadované vklady a záruky: See the tender documentation.
Hlavní podmínky financování a platební ujednání a/nebo odkaz na příslušné předpisy, které je upravují: See the tender documentation.

Postup
Lhůta platnosti nabídky: 3 měsíců
Datum otevírání nabídek: 2014-10-30 📅
Místo otevírání:

Rektorát Masarykovy univerzity, Žerotínovo nám. 9, 602 00 Brno (sraz ve vestibulu rektorátu).

Místo: Rektorát Masarykovy univerzity, Žerotínovo nám. 9, 602 00 Brno (sraz ve vestibulu rektorátu).
Informace o oprávněných osobách a postupu otevírání:

The Tenderers may be present at the envelopes opening or their representatives, up to the maximum of 1 person per Tenderer.

Jazyky
Jazyk: čeština 🗣️
angličtina 🗣️

Zadavatel
Totožnost
Národní registrační číslo: 00216224
Název zadavatele: Vysoké učení technické v Brně, Středoevropský technologický institut
Národní registrační číslo: 00216305
Poštovní směrovací číslo: 616 00
Kontakt
Kontaktní místo: Centrální řídící struktura projektu CEITEC
Petr Jelinek
Adresa profilu kupujícího: https://zakazky.muni.cz 🌏
URL pro účast: https://zakazky.muni.cz/vz00003148 🌏
URL dokumentů: https://zakazky.muni.cz/vz00003148 🌏

Odkaz
Data
Datum zveřejnění: 2014-05-23 📅
Identifikátory
Referenční číslo přidělené zadavatelem: MU-ZAK/74864/2014/140657/CEITEC-CŘS
Číslo oznámení v Úředním věstníku S: 2014/S 99-172562

Doplňující informace
Tělo recenze
Název: Úřad pro ochranu hospodářské soutěže
Poštovní adresa: tř. Kpt. Jaroše 7
Poštovní město: Brno
Poštovní směrovací číslo: 60455
Země: Česko 🇨🇿
E-mail: posta@compet.cz 📧
Telefon: +420 542167811 📞
Internetová adresa: http://www.compet.cz 🌏
Fax: +420 542167115 📠
Informace o lhůtách pro přezkum:

Objections must be submitted within 15 days after the notice of the act of Tendering Authority which the Tenderer appeals againts. Tendering Authority has to deal with the objections within 10 days. In case of rejection of the objections by the Tendering Authority, tenderers may put an appeal at the Czech Competition Authority (Úřad pro ochranu hospodářské soutěže) within 10 days and also to hands of Tendering Authority.

Zdroj: OJS 2014/S 178-314283 (2014-09-12)

Dodatečné informace (2014-09-16)
Objekt
Metadata oznámení
Typ dokumentu: Dodatečné informace

Odkaz
Data
Datum odeslání: 2014-09-16 📅
Lhůta pro podání nabídek: 2014-11-03 📅
Datum zveřejnění: 2014-09-20 📅
Identifikátory
Číslo oznámení: 2014/S 181-318652
Odkazuje na oznámení: 2014/S 178-314283
Číslo Úř. věst. S: 181
Zdroj: OJS 2014/S 181-318652 (2014-09-16)

Dodatečné informace (2014-10-27)
Odkaz
Data
Datum odeslání: 2014-10-27 📅
Lhůta pro podání nabídek: 2014-11-10 📅
Datum zveřejnění: 2014-10-30 📅
Identifikátory
Číslo oznámení: 2014/S 209-369655
Číslo Úř. věst. S: 209
Zdroj: OJS 2014/S 209-369655 (2014-10-27)

Oznámení o zadání zakázky (2015-01-30)
Objekt
Rozsah veřejné zakázky
Celková hodnota zakázky: 45 886 000 💰
Metadata oznámení
Typ dokumentu: Oznámení o zadání zakázky

Postup
Typ nabídky: Nehodící se

Zadavatel
Kontakt
E-mail: alena.jurneckova@ceitec.cz 📧
Telefon: +420 549498733 📞

Odkaz
Data
Datum odeslání: 2015-01-30 📅
Datum zveřejnění: 2015-02-04 📅
Identifikátory
Číslo oznámení: 2015/S 024-039812
Odkazuje na oznámení: 2014/S 181-318652
Číslo Úř. věst. S: 24
Další informace

Ke dni vyhotovení této zprávy je zadavateli známo, že se na plnění nadepsané veřejné zakázky bude jakožto subdodavatel vybraného uchazeče podílet společnost Oxford Instruments GmbH, sídlem Otto von Guericke Ring 10, 65205 Wiesbaden, SRN, IČ 043/240/98078 (dále jen „subdodavatel”). Subdodavatel zajistí splnění předmětu veřejné zakázky v rozsahu smlouvy o spolupráci uzavřené mezi ním a vybraným uchazečem dne 10.10.2014, jež je přílohou uzavřených kupních smluv.

Objekt
Rozsah veřejné zakázky
Referenční číslo: 318_CRS_Soubor_leptacich_a_depozicnich_zarizeni

Postup
Kritéria pro udělení ceny
Kritérium: 1. Nabídková cena (55)
2. Technické a užitné vlastnosti (45)

Zadání zakázky

1️⃣
Datum uzavření smlouvy: 2015-01-22 📅
Název: PAP & spol. s.r.o.
Poštovní adresa: Vladislava Vančury 1868/14
Poštovní město: Most
Poštovní směrovací číslo: 434 01
Země: Česko 🇨🇿

2️⃣
Informace o nabídkách
Počet obdržených nabídek: 2

Zadavatel
Totožnost
Název zadavatele: Vysoké učení technické v Brně
Poštovní adresa: Antonínská 548/1
Poštovní směrovací číslo: 602 00
Kontakt
Kontaktní místo: Mgr. Ing. Alena Jurnečková

Doplňující informace
Tělo recenze
Poštovní směrovací číslo: 604 55
Informace o lhůtách pro přezkum:

Podmínkou pro podání návrhu k ÚOHS je podání námitek k zadavateli, které je nutné doručit do 15 dnů ode dne, kdy se dodavatel dozvěděl o úkonu zadavatele, který napadá. Zadavatel je povinen námitky vyřídit do 10 dnů. Návrh je nutné doručit ÚOHS i zadavateli do 10 dnů od doručení rozhodnutí zadavatele o námitkách nebo do 25 dnů od odeslání námitek, pokud zadavatel o námitkách nerozhodl.

Zdroj: OJS 2015/S 024-039812 (2015-01-30)

Nové veřejné zakázky v souvisejících kategoriích 🆕

Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel) (>20 nové veřejné zakázky)