RIE odstraňovač rezistu
Předmětem zakázky je dodávka zařízení pro odstraňování resistů po leptacích procesech, zejména elektronovou a UV litografií. V závislosti na typu resistu je dané zařízení je určeno pro reaktivní plazmatické leptání (Reactive Ion Etching - RIE) (ne)exponovaných positivních a negativních resistů. Dodávku tvoří kompletní systém vyžadující pouze připojení k síti 230 V, demineralizované vodě, vakuovému rozvodu a rozvodu stlačeného vzduchu nebo dusíku. Dále musí mít dodávané zařízení vstupy pro minimálně dva reakční plyny z důvodu různých leptacích postupů pro každý resist. Celkové uspořádání odstraňovače resistů musí být kompatibilní s čistými prostorami třídy 100. Podrobná specifikace je uvedena v zadávací dokumentaci.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2013-08-19.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2013-06-25.
Dodavatelé
V rozhodnutích o udělení zakázky nebo v jiné zadávací dokumentaci jsou uvedeni tito dodavatelé:
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
| Datum |
Dokument |
| 2013-06-25
|
Oznámení zadávacího řízení
|
| 2013-07-19
|
Dodatečné informace
|
| 2013-10-25
|
Oznámení o zadání zakázky
|