Veřejné zakázky: Litografické služby
2 archivované veřejné zakázky
- Obchodní služby: právní, marketingové, poradenské služby, nábor zaměstnanců, tiskařské a bezpečnostní služby (19 nové veřejné zakázky)
- Tiskařské a související služby (5)
- Činnosti související s tiskem (1)
- Sazečské práce (1)
- Služby týkající se sazby
- Litografické služby ⬅️
- Služby v oblasti grafického designu (1)
Nedávné veřejné zakázky na litografické služby v Česko
2014-09-01
Vybavení litografické laboratoře Ceitec VUT (Vysoké učení technické v Brně)
Předmětem této zakázky je vybavení nově budované litografické laboratoře Ceitec VUT. Zakázka bude rozdělena na 2 části, přičemž dodavatel může podat nabídku na libovolnou část zakázky nebo na obě části zakázky současně: — část 1 zakázky – Chemické lavice. Předmětem této části zakázky je dodávka sedmi druhů specializovaných chemických lavic především pro polovodičové technologické procesy, procesy elektronové a optické litografie, chemického čištění a leptání do Sdílené laboratoře Příprava a … Zobrazit zadávací řízení »
Předmětem této zakázky je vybavení nově budované litografické laboratoře Ceitec VUT. Zakázka bude rozdělena na 2 části, přičemž dodavatel může podat nabídku na libovolnou část zakázky nebo na obě části zakázky současně: — část 1 zakázky – Chemické lavice. Předmětem této části zakázky je dodávka sedmi druhů specializovaných chemických lavic především pro polovodičové technologické procesy, procesy elektronové a optické litografie, chemického čištění a leptání do Sdílené laboratoře Příprava a … Zobrazit zadávací řízení »
2013-06-25
RIE odstraňovač rezistu (Vysoké učení technické v Brně)
Předmětem zakázky je dodávka zařízení pro odstraňování resistů po leptacích procesech, zejména elektronovou a UV litografií. V závislosti na typu resistu je dané zařízení je určeno pro reaktivní plazmatické leptání (Reactive Ion Etching - RIE) (ne)exponovaných positivních a negativních resistů. Dodávku tvoří kompletní systém vyžadující pouze připojení k síti 230 V, demineralizované vodě, vakuovému rozvodu a rozvodu stlačeného vzduchu nebo dusíku. Dále musí mít dodávané zařízení vstupy pro minimálně dva … Zobrazit zadávací řízení »
Předmětem zakázky je dodávka zařízení pro odstraňování resistů po leptacích procesech, zejména elektronovou a UV litografií. V závislosti na typu resistu je dané zařízení je určeno pro reaktivní plazmatické leptání (Reactive Ion Etching - RIE) (ne)exponovaných positivních a negativních resistů. Dodávku tvoří kompletní systém vyžadující pouze připojení k síti 230 V, demineralizované vodě, vakuovému rozvodu a rozvodu stlačeného vzduchu nebo dusíku. Dále musí mít dodávané zařízení vstupy pro minimálně dva … Zobrazit zadávací řízení »