Komplexní zákaznická UHV aparatura
Předmětem zakázky je dodávka souhrnu analytických a preparačních metod seskupených do jednoho vzájemně propojeného celku nazvaného UHV komplexní systém pro výrobu a charakterizaci ultratenkých vrstev a nanostruktur. Komplexní UHV systém spojuje in-situ preparační a analytické metody studia povrchů a tenkých vrstev a to jak anorganických, tak i organických. Uspořádání aparatury a výběr analytických metod umožní studium struktury povrchových vrstev vzorků, jejich chemického složení a elektronové struktury a to v reálném čase jak v mikrometrovém, tak i nanometrovém měřítku. Systém je složen z analytických a preparačních komor vzájemně propojených lineárním transportním systémem:
(I) komora pro analýzu metodou LEEM/PEEM;
(II) komora pro analýzu STM/AFM;
(III) komora pro analýzu fotoelektronovou spektroskopií;
(IV) komora pro depozici metodou MBE;
(V) víceúčelová komora pro přípravu vzorků v podmínkách velmi vysokého vakua;
(VI) komora pro základní přípravu a čištění vzorků;
(VII) zakládací komora.
Systém dále umožňuje integraci produktů třetích stran:
(VIII) systém pro depozici metodou PLD;
(IX) systém pro analýzu povrchů metodou LEIS.
Systém bude dále obsahovat:
(X) systém pro přesun vzorků mezi jednotlivými komorami v podmínkách velmi vysokého vakua.
Součástí dodávky je rovněž kompletní elektronický systém, řídící a vyhodnocovací datastanice včetně SW. Podrobná technická specifikace a požadavky na systém a jednotlivé komory je v části 3 zadávací dokumentace – technická specifikace předmětu zakázky, kde je současně uveden způsob ověření jednotlivých požadovaných parametrů zadavatelem.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2014-07-25.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2014-06-01.
Dodavatelé
V rozhodnutích o udělení zakázky nebo v jiné zadávací dokumentaci jsou uvedeni tito dodavatelé:
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
| Datum |
Dokument |
| 2014-06-01
|
Oznámení zadávacího řízení
|
| 2014-11-11
|
Oznámení o zadání zakázky
|