Vybavení litografické laboratoře Ceitec VUT
Předmětem této zakázky je vybavení nově budované litografické laboratoře Ceitec VUT. Zakázka bude rozdělena na 2 části, přičemž dodavatel může podat nabídku na libovolnou část zakázky nebo na obě části zakázky současně:
— část 1 zakázky – Chemické lavice. Předmětem této části zakázky je dodávka sedmi druhů specializovaných chemických lavic především pro polovodičové technologické procesy, procesy elektronové a optické litografie, chemického čištění a leptání do Sdílené laboratoře Příprava a charakterizace nanostruktur. Základním požadavkem kladeným na všechny chemické lavice je celková kompatibilita s chemickými procesy definovanými zadavatelem, jejich zabudování a připojení k technickému zázemí (demineralizované vodě, rozvodu dusíku a tlakového vzduchu, chemického a splaškového odpadu). Chemické lavice budou zabudovány do laboratoří s třídou čistoty 100, a proto je požadována plná materiálová kompatibilita s tímto prostředím,
— část 2 zakázky – Sestava zařízení pro litografickou linku. Předmětem této části zakázky je kompletní systém pro optickou fotolitografii, kdy základní myšlenkou zadavatele je zbudování ucelené (foto)litografické linky do nově budovaných vědecko-technických laboratoří CEITEC VUT. Požadovaný kompletní systém pro optickou fotolitografii obsahuje maskový litograf, který bude automatizován pro rutinní aplikace - vyrovnání (mask – chuck levelling) a zarovnání (mask – substrate alignment) litografické masky se substrátem a expozici; zařízení musí umožňovat i kombinaci postupných expozic přes různé litografické masky na jeden substrát včetně jeho zarovnání z horní i spodní strany k definovaným značkám.
Dále je požadováno zařízení pro nanášení a vyvolávání především organických vrstev za účelem elektronové a optické litografie. Toto zařízení musí obsahovat automatizovaný a uživatelsky programovatelný systém nanášení a vyvolávání litografických resistů pro substráty až do velikosti 8“. Součástí tohoto zařízení je ucelený systém dávkovačů a zásobníků pro resisty a vývojky, odpadové hospodářství, ovládací SW, bude ovládán pomocí dotykové obrazovky, s předdefinovanými procesy nanášení a vyvolávání. Zařízení bude umístěno na samostatně stojícím rámu. Další součástí kompletního systému pro optickou fotolitografii je litografický stůl za účelem přípravy substrátů zejména pro elektronovou nebo optickou litografii. Základní procesy jsou vypékaní resistů, nanášení resistů a nanášení adhezivních mezivrstev za účelem nanášení pozitivních a negativních resistů pro elektronovou a optickou litografii, kompatibilita minimálně s PMMA, SU-x, AZ-x např. PMMA 495 A8, SU 8 2000.5, S1813, AZ5214e, Sigma Aldrich KIT, HSQ. Podrobná specifikace požadavků na zařízení je uvedena v části 3.1 a 3.2 zadávací dokumentace.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2014-10-24.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2014-09-01.
Dodavatelé
V rozhodnutích o udělení zakázky nebo v jiné zadávací dokumentaci jsou uvedeni tito dodavatelé:
Kdo?
Cože?
Kde?
Historie zadávání veřejných zakázek
| Datum |
Dokument |
| 2014-09-01
|
Oznámení zadávacího řízení
|
| 2015-01-06
|
Oznámení o zadání zakázky
|