Mikrovlnný plazmatický depoziční systém s fokusovanou plasmou a PVD & PE CVD depoziční zařízení (Microwave plasma CVD deposition system AND PVD & PE CVD deposition system)
Předmětem zakázky je dodávka:
a) Mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro chemickou depozici z par za asistence mikrovlnně buzeného plazmatu tenkých diamantových vrstev na rovinných substrátech v průměru do 4 palců z plazmatu bohatého na vodík;
b) PVD & PE CVD depozičního zařízení. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro přípravu kompozitních materiálů pomocí PVD v kombinaci s CVD a klastrovým zdrojem pro nanášení tenkých vrstev a nanočástic na bázi uhlíku na ploché substráty o průměru do 4 palců.
Termín
Lhůta pro podání nabídek byla 2019-09-16.
Veřejná zakázka byla zveřejněna na 2019-07-23.
Oznámení zadávacího řízení (2019-07-23) Objekt Rozsah veřejné zakázky
Název: Zařízení pro řízení průmyslových procesů
Krátký popis:
“Předmětem zakázky je dodávka:” Metadata oznámení
Původní jazyk: čeština 🗣️
Typ dokumentu: Oznámení zadávacího řízení
Povaha zakázky: Dodávky
Předpis: Evropská Unie, za účasti zemí GPA
Společný slovník pro veřejné zakázky (CPV)
Kód: Zařízení pro řízení průmyslových procesů📦
Doplňkový kód CPV: Magnetrony📦 Místo plnění
Region NUTS: Hlavní město Praha🏙️
Postup
Typ řízení: Otevřené řízení
Typ nabídky: Podání nabídky pro všechny části
Kritéria pro udělení ceny
Hospodářsky nejvýhodnější nabídka
Odkaz Data
Datum odeslání: 2019-09-12 📅
Lhůta pro podání nabídek: 2019-09-30 📅
Datum zveřejnění: 2019-09-17 📅
Identifikátory
Číslo oznámení: 2019/S 179-435991
Odkazuje na oznámení: 2019/S 143-351516
Číslo Úř. věst. S: 179
Zdroj: OJS 2019/S 179-435991 (2019-09-12)
Oznámení o zadání zakázky (2019-10-09) Objekt Rozsah veřejné zakázky
Krátký popis:
“Předmětem zakázky je dodávka: a) Mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat...”
Krátký popis
Předmětem zakázky je dodávka: a) Mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro chemickou depozici z par za asistence mikrovlnně buzeného plazmatu tenkých diamantových vrstev na rovinných substrátech v průměru do 4 palců z plazmatu bohatého na vodík; b) PVD & PE CVD depozičního zařízení. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro přípravu kompozitních materiálů pomocí PVD v kombinaci s CVD a klastrovým zdrojem pro nanášení tenkých vrstev a nanočástic na bázi uhlíku na ploché substráty o průměru do 4 palců.
Zobrazit více Metadata oznámení
Typ dokumentu: Oznámení o zadání zakázky
Postup
Typ nabídky: Nehodící se
Zadavatel Totožnost
Název zadavatele: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Odkaz Data
Datum odeslání: 2019-10-09 📅
Datum zveřejnění: 2019-10-14 📅
Identifikátory
Číslo oznámení: 2019/S 198-480968
Číslo Úř. věst. S: 198
Zdroj: OJS 2019/S 198-480968 (2019-10-09)
Nové veřejné zakázky v souvisejících kategoriích 🆕