Veřejné zakázky: Magnetrony

12 archivované veřejné zakázky

Magnetrony byly pořízeny organizacemi jako např Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava a Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i..
Historicky byli dodavatelé v této oblasti Activair s.r.o., AJA International, Inc., Cornes Technologies USA, Devmatech sp.j. E.Bojarski, Měřící technika Morava s.r.o. a VTech Investment s.r.o..

Nedávné veřejné zakázky na magnetrony v Česko

2025-01-02   Systém pro depozici tenkých vrstev (Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava)
Předmětem plnění veřejné zakázky je dodávka systému pro depozici tenkých vrstev vč. softwaru a příslušenství. Podrobná technická specifikace je uvedena v příloze č. 1 zadávací dokumentace. Podmínky plnění jsou dále uvedeny v obchodních podmínkách (návrhu smlouvy), které tvoří přílohu č. 2 zadávací dokumentace. Předmět veřejné zakázky bude spolufinancován z projektu „REFRESH – Research Excellence For REgion Sustainability and High-tech Industries“, reg. č. CZ.10.03.01/00/22_003/0000048, prostřednictvím … Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: Měřící technika Morava s.r.o.
2024-08-19   Depoziční zařízení / Deposition device (Masarykova univerzita)
Zařízení pro depozici tenkých vrstev magnetronovým naprašováním. Zařízení je určené pro výzkum a vývoj v oblasti přípravy nových materiálů ve formě tenkých vrstev připravených metodou magnetronového naprašováni. / Magnetron sputtering deposition device. The device is used for the research and development of new materials in the form of thin films prepared by magnetron sputtering. Zobrazit zadávací řízení »
2024-08-17   Diamond layer growth technology from gas vapor in microwave plasma - REISSUE (Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.)
Předmětem veřejné zakázky je dodávka pulzního mikrovlnného depozičního systému (2,45 GHz) pracujícího s vysokým výkonem (CW ≥2 kW, pulzní režim ≥4 kW) umožňujícího inicializaci plazmatu o vysoké hustotě v rozsahu provozních tlaků od 5 až 50 Pa a umožňující depozici na trojrozměrné substráty o výšce 2 cm a minimální ploše 10 cm. Zobrazit zadávací řízení »
2024-08-02   Dodávka systému magnetronového naprašování (Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava)
Předmětem plnění veřejné zakázky je dodávka systému magnetronového naprašování, vč. software a příslušenství. Systém musí být navržen pro magnetronové naprašování (i reaktivní) tenkých filmů (s tloušťkami min ~ 5nm) kovů, kovových slitin, oxidů kovů, nitridů kovů, vícevrstevnatých systémů, na substráty s velikostí v průměru minimálně 4" s prostorovou homogenitou naprašovaných vrstev +/- 2,5% nebo menší. Systém a jeho hardwarové komponenty musí být kompatibilní s teplotou ohřívače až do 1000 °C a teplotou … Zobrazit zadávací řízení »
2024-06-04   Diamond layer growth technology from gas vapor in microwave plasma (Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.)
Předmětem veřejné zakázky je dodávka pulzního mikrovlnného depozičního systému (2,45 GHz) pracujícího s vysokým výkonem (CW ≥2 kW, pulzní režim ≥4 kW) umožňujícího inicializaci plazmatu o vysoké hustotě v rozsahu provozních tlaků od 5 až 50 Pa a umožňující depozici na trojrozměrné substráty o výšce 2 cm a minimální ploše 10 cm. Zobrazit zadávací řízení »
2023-12-18   Systém magnetronového naprašování (Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava)
Předmětem plnění veřejné zakázky je dodávka systému magnetronového naprašování vč. příslušenství. Blíže viz zadávací dokumentace. Zobrazit zadávací řízení »
2021-11-25   CATRIN/RCPTM - Systém magnetronového naprašování (Univerzita Palackého v Olomouci)
Předmětem plnění veřejné zakázky je dodávka systému magnetronového naprašování. Předmětem veřejné zakázky je vedle samotné dodávky také doprava, instalace v místě dodání (všechny níže uvedené jednotlivé jednotky musí být spojeny ve funkčním systému aparatury magnetronového naprašování), demonstrace aparatury magnetronového naprašování (depozice tenkých vrstev čistého kovu, slitiny, jeho oxidu, či nitridu - např. Ti, TiTa, TiO2, TiN), zaškolení obsluhy kvalifikovaným pracovníkem a zajištění záručního … Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: VTech Investment s.r.o.
2020-02-17   PVD deposition system (PVD depoziční zařízení) (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.)
Předmětem zakázky je dodávka PVD depozičního zařízení pro přípravu kompozitních materiálů pomocí PVD v kombinaci s klastrovým zdrojem. Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: AJA International, Inc.
2019-11-29   Mikrovlnný plazmatický depoziční systém s fokusovanou plasmou (Microwave plasma CVD deposition system) (Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.)
Předmětem zakázky je dodávka mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro chemickou depozici z par za asistence mikrovlnně buzeného plazmatu tenkých diamantových vrstev na rovinných substrátech v průměru do 4 palců z plazmatu bohatého na vodík. Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: Cornes Technologies USA
2019-08-01   Atomic Layer Deposition (Systém pro depozici atomárních vrstev) (Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.)
Dodávka systému ALD pro účely projektu Fyzika pevných látek pro 21. století, kde bude využit jako „společný přístroj“ pro všechny výzkumné programy projektu. ALD bude sloužit jako modulární depoziční systém pro kontrolovanou depozici atomárně tenkých vrstev pro výzkum a vývoj nových materiálů a součástek v nanoelektronice, optoelektronice, optice a biomedicíně. Mezi hlavní deponované materiály v ALD budou patřit Al2O3, HfO2, ZnO, TiO2, SiO2 a Si3N4. Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: Devmatech sp.j. E.Bojarski
2019-07-23   Mikrovlnný plazmatický depoziční systém s fokusovanou plasmou a PVD & PE CVD depoziční zařízení (Microwave plasma... (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.)
Předmětem zakázky je dodávka: a) Mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro chemickou depozici z par za asistence mikrovlnně buzeného plazmatu tenkých diamantových vrstev na rovinných substrátech v průměru do 4 palců z plazmatu bohatého na vodík; b) PVD & PE CVD depozičního zařízení. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno … Zobrazit zadávací řízení »
2018-04-03   RCPTM/ Příslušenství aparatury magnetronového naprašování (Univerzita Palackého v Olomouci)
Předmětem veřejné zakázky je dodávka speciálního přístrojového vybavení pro účely zajištění aktivit projektu dle dále uvedené specifikace. Předmětem veřejné zakázky je vedle samotné dodávky také zajištění záručního servisu. Podrobná technická specifikace je uvedena viz odst. 2.2 Dokumentace. Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: Activair s.r.o.
Související vyhledávání 🔍
Zadávající organizace: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i. Univerzita Palackého v Olomouci Masarykova univerzita
Dodavatelé: Activair s.r.o. AJA International, Inc. Cornes Technologies USA Devmatech sp.j. E.Bojarski Měřící technika Morava s.r.o. VTech Investment s.r.o.
Produkty/služby: Elektrické strojní zařízení, přístroje,... Elektronická, elektromechanická... Elektronická zařízení Elektronické doplňky Elektronky a trubice Mikrovlnné elektronky Magnetrony Laboratorní, optické a přesné přístroje... Zařízení pro řízení průmyslových procesů... Zařízení pro řízení průmyslových procesů