2023-12-18   Systém magnetronového naprašování (Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava)
Předmětem plnění veřejné zakázky je dodávka systému magnetronového naprašování vč. příslušenství. Blíže viz zadávací dokumentace. Zobrazit zadávací řízení »
2021-11-25   CATRIN/RCPTM - Systém magnetronového naprašování (Univerzita Palackého v Olomouci)
Předmětem plnění veřejné zakázky je dodávka systému magnetronového naprašování. Předmětem veřejné zakázky je vedle samotné dodávky také doprava, instalace v místě dodání (všechny níže uvedené jednotlivé jednotky musí být spojeny ve funkčním systému aparatury magnetronového naprašování), demonstrace aparatury magnetronového naprašování (depozice tenkých vrstev čistého kovu, slitiny, jeho oxidu, či nitridu - např. Ti, TiTa, TiO2, TiN), zaškolení obsluhy kvalifikovaným pracovníkem a zajištění záručního … Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: VTech Investment s.r.o.
2020-02-17   PVD deposition system (PVD depoziční zařízení) (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.)
Předmětem zakázky je dodávka PVD depozičního zařízení pro přípravu kompozitních materiálů pomocí PVD v kombinaci s klastrovým zdrojem. Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: AJA International, Inc.
2019-11-29   Mikrovlnný plazmatický depoziční systém s fokusovanou plasmou (Microwave plasma CVD deposition system) (Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.)
Předmětem zakázky je dodávka mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro chemickou depozici z par za asistence mikrovlnně buzeného plazmatu tenkých diamantových vrstev na rovinných substrátech v průměru do 4 palců z plazmatu bohatého na vodík. Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: Cornes Technologies USA
2019-08-01   Atomic Layer Deposition (Systém pro depozici atomárních vrstev) (Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.)
Dodávka systému ALD pro účely projektu Fyzika pevných látek pro 21. století, kde bude využit jako „společný přístroj“ pro všechny výzkumné programy projektu. ALD bude sloužit jako modulární depoziční systém pro kontrolovanou depozici atomárně tenkých vrstev pro výzkum a vývoj nových materiálů a součástek v nanoelektronice, optoelektronice, optice a biomedicíně. Mezi hlavní deponované materiály v ALD budou patřit Al2O3, HfO2, ZnO, TiO2, SiO2 a Si3N4. Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: Devmatech sp.j. E.Bojarski
2019-07-23   Mikrovlnný plazmatický depoziční systém s fokusovanou plasmou a PVD & PE CVD depoziční zařízení (Microwave plasma... (Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.)
Předmětem zakázky je dodávka: a) Mikrovlnného plazmatického depozičního systému s fokusovanou plazmou. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno pro chemickou depozici z par za asistence mikrovlnně buzeného plazmatu tenkých diamantových vrstev na rovinných substrátech v průměru do 4 palců z plazmatu bohatého na vodík; b) PVD & PE CVD depozičního zařízení. Zařízení musí být nové, plně funkční a musí obsahovat všechny potřebné součásti. Bude používáno … Zobrazit zadávací řízení »
2018-04-03   RCPTM/ Příslušenství aparatury magnetronového naprašování (Univerzita Palackého v Olomouci)
Předmětem veřejné zakázky je dodávka speciálního přístrojového vybavení pro účely zajištění aktivit projektu dle dále uvedené specifikace. Předmětem veřejné zakázky je vedle samotné dodávky také zajištění záručního servisu. Podrobná technická specifikace je uvedena viz odst. 2.2 Dokumentace. Zobrazit zadávací řízení »
Zmínění dodavatelé: Activair s.r.o.